Sina Burkert – Ruhepole
Zum Thema „Ruhe“ hat Sina Burkert das Bild „Ruhepole“ eingereicht. Zu sehen sind Entmischungsstrukturen zweier Polymere, die in einer nanometerdicken Schicht auf einen Siliziumwafer angebracht sind. Die sich dabei bildenden sogenannten Polymerbürsten zeigen herausragende Eigenschaften wie zum Beispiel das „Schalten“ von Oberflächeneigenschaften. Dabei kann ein so modifizierter Siliziumchip seine Eigenschaften gezielt ändern und Auswirkungen auf die Benetzbarkeit, das Wachsen von Zellen etc. haben. Dieses Bild wurde mit einem AFM Gerät, Multimode Nanoscope V gemacht.